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研究設備
- 陰極電弧沉積鍍膜系統(CAE)/產學合作 X 2
- 電漿化學氣相沉積鍍膜系統(PECVD) X 1
- 電漿光譜分析儀(OES) X 2
- 快速退火熱處理爐(RTA) X 1
- 真空離子氮化系統/產學合作 X 1
- 電漿微弧氧化系統(PEO/MAO)/產學合作 X 1
- 高溫管型爐(1200 DEG. C) 氣相沉積系統 X 2
- 衝擊疲勞壓痕測試儀(500 DEG. C) X 2
- 洛式壓痕薄膜附著力試驗機X 2
- 薄膜硬度與機械性質量測儀 X 1
- 球磨薄膜厚度量測儀 X 1
- 多功能光學顯微鏡 X 1
- 多功能刀具磨床 X 1
- 慢速鑽石切割機 X 1
